近日，市場(chǎng)監(jiān)管總局批準(zhǔn)新建二維線紋基準(zhǔn)裝置，填補(bǔ)我國(guó)校準(zhǔn)影像測(cè)量?jī)x、光學(xué)顯微鏡等光學(xué)精密測(cè)量設(shè)備和高精度光刻機(jī)母版制造設(shè)備的二維線紋標(biāo)準(zhǔn)器的測(cè)量能力空白，核心技術(shù)實(shí)現(xiàn)完全自主可控。

二維線紋基準(zhǔn)裝置測(cè)量范圍為320mm×320mm，最優(yōu)測(cè)量不確定度僅28nm，相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑的2500分之一。該基準(zhǔn)裝置主要特點(diǎn)是大范圍、微尺寸、多參量，可為二維尺寸、位置及形狀提供量值溯源，達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。該基準(zhǔn)裝置有助于解決亞微米、納米級(jí)光刻機(jī)母版的二維線紋“測(cè)不準(zhǔn)”的難題，為電子通信、軌道交通、航空航天、醫(yī)療設(shè)備等高端制造領(lǐng)域精密加工和測(cè)量設(shè)備提供技術(shù)支撐和保障。